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如何巧妙的避免紫外光譜儀誤差呢？
紫外光譜儀是一款針對紫外光/可見光測量應用的預配置的微型光譜儀，這款只有手掌大小的高性能光譜儀波長范圍達到200-850納米，為您的測量帶來更大的靈活性，依靠模塊化設計，是物質中分子吸收200-800nm光譜區(qū)內的光而產生的，這種分子吸收光譜產生于價電子和分子軌道上的電子在電子能級躍遷原子或分子中的電子，總是處在某一種運動狀態(tài)之中，每一種狀態(tài)都具有一定的能量，屬于一定的能級。
這些電子由于各種原因如受光、熱、電的激發(fā)而從一個能級轉到另一個能級，稱為躍遷。當這些電子吸收了外來輻射的能量就從一個能量較低的能級躍遷到一個能量較高的能級。因此，每一躍遷都對應著吸收一定的能量輻射。
紫外光譜儀具有不同分子結構的各種物質，有對電磁輻射顯示選擇吸收的特性，吸光光度法就是基于這種物質對電磁輻射的選擇性吸收的特性而建立起來的，它屬于分子吸收光譜，是通過對紫外光吸收的強弱判斷化合物種類和含量，對紫外光有吸收的一般都是些特殊的離子，結果或者金屬離子。
如何巧妙的避免紫外光譜儀誤差呢？雖然準確性高，但由于很多因素的影響導致存在一定的誤差，下面請聽小編從以下幾個方面進行分析。
一、系統(tǒng)誤差的來源
1.標樣和試樣中的含量和化學組成不*相同時，可能引起基體線和分析線的強度改變，從而引入誤差。
2.標樣和試樣的物理性能不*相同時，激發(fā)的特征譜線會有差別從而產生系統(tǒng)誤差。
3.澆注狀態(tài)的鋼樣與經過退火、淬火、回火、熱軋、鍛壓狀態(tài)的鋼樣金屬組織結構不相同時，測出的數據會有所差別。
4.未知元素譜線的重疊干擾。如熔煉過程中加入脫氧劑、除硫磷劑時，混入未知合金元素而引入系統(tǒng)誤差。
5.要消除系統(tǒng)誤差，必須嚴格按照標準樣品制備規(guī)定要求。為了檢查系統(tǒng)誤差，就需要采用化學分析方法分析多次校對結果。
二、偶然誤差的來源
與樣品成分不均勻有關的誤差。因為光電光譜分析所消耗的樣品很少，樣品中元素分布的不均勻性、組織結構的不均勻性，導致不同部位的分析結果不同而產生偶然誤差。主要原因如下：
1.熔煉過程中帶入夾雜物，產生的偏析等造成樣品元素分布不均。
2.試樣的缺陷、氣孔、裂紋、砂眼等。
3.磨樣紋路交叉、試樣研磨過熱、試樣磨面放置時間太長和壓上指紋等因素。
4.要減少偶然誤差，就要精心取樣，消除試樣的不均勻性及試樣的鑄造缺陷，也可以重復多次分析來降低分析誤差。
三、其他因素誤差
1.氬氣不純。當氬氣中含有氧和水蒸氣時，會使激發(fā)斑點變壞。如果氬氣管道與電極架有污染物排不出去，分析結果會變差。
2.紫外光譜儀室內溫度的升高會增加光電倍增管的暗電流，降低信噪比。濕度大容易導致高壓元件發(fā)生漏電、放電現象，使分析結果不穩(wěn)定。